相较上一代平台，全新自动掩模对准系统（IQAlignerNT）产出率和对准精度提升两倍，为EVG光刻解决方案带来了全新应用微机电系统（MEMS）、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备LINGXIAN供应商EVG集团（EVG）近日宣布推出IQAlignerNT，旨在针对大容量XIANJIN封装应用推出的全新自动掩模对准系统。IQAlignerNT光刻机配备了高强度和高均匀度曝光镜头、全新晶圆处理硬件、支持全局多点对准的全200毫米和全300毫米晶圆覆盖、以及优化的工具软件。...

1.介绍对电子设备性能和灵活性的新要求正在使制造基础架构从传统的基于掩模的光刻技术转变为用于高级封装和异构集成的数字光刻技术。片上系统正在从单片解决方案转向封装，小芯片和功能块中的模块化系统。因此，对于可扩展和通用后端光刻的需求不断增长，以实现封装和系统级的互连。为了满足这一新的行业愿景，需要能够通过高级封装快速集成新颖功能元素的大规模生产新工具。大批量制造（HVM）行业必须超越保守的芯片图案设计，并进入数字光刻技术的新时代。EVGroup开发了MLE™（无掩模曝...

一、优势简介：MicroSense的高精度电容式位移传在感器，除具有一般非接触式仪器的共性外，还具有信噪比高、灵敏度高、零漂小、频响宽、非线性小、精度稳定性好、抗电磁干扰能力强、使用方便等优点，在国内研究所、高等院校、企业得到广泛应用，成为科研、教学和生产中一种非常重要的测试仪器。二、特点：1、可实现近距离、高精度、非接触式位置测量2、分辨率可达亚纳米级直至皮纳米级，在所有商用电容传感器品牌中，噪音ZUI低3、提供多种型号的探头，以满足高稳定性、线性或高测量带宽等不同需求4、...

３结果与讨论３.１显影时间影响经过无掩模光刻机曝光后，目标图案已转移至ＩＴＯ玻璃上。将ＩＴＯ玻璃放置于加热板上进行加热，烘除光刻胶中的残留溶剂、水分，使光刻胶与ＩＴＯ玻璃结合更加紧密，此时，经过曝光的光刻胶与未曝光的光刻胶在显影液中会存在明显的溶解速度差。将自然冷却后的ＩＴＯ玻璃浸没于ＳＵ－８光刻胶专用显影液中，由于本实验中采用的光刻胶为负胶，因此显影目的是为了除去曝光区域以外的光刻胶。该方法的核心问题是控制显影时间。图２为经过不同显影时间后，在Ｔｉ－Ｅ显微镜下观察到的光刻胶...

厚度电阻率测试是一种用于测量材料电阻率的方法，它可以帮助工程师评估材料的质量和可靠性。该测试通常通过将两个探头放在材料的表面上，然后测量它们之间的电阻来完成。厚度电阻率测试有以下几个特点：1.非破坏性：与其他测试方法不同，它是一种非破坏性的测试方法。这意味着对于需要保留完整性、外观或功能的材料，您可以快速检查其电阻率而无需损坏样品。因此，它是一种非常有用的测试方法，尤其适用于生产线上的大批量材料测试。2.精确性高：该测试可以提供非常准确的结果。通过使用精密加工的探头以及计算机...